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第166章 中国人自己的芯片（第1页）

接下来两天，苏白几乎没有出过废品站的门。

十片硅圆片整齐的排在工作台上，每一片都经过了他用蒸馏水和无水酒精的反复清洗。

第一步，涂光刻胶。

苏白用自制的旋涂装置，也就是那台离心机换了个低档，把光刻胶均匀甩在硅片表面。

转一千二百转，持续三十秒。

取下来的硅片表面覆盖了一层薄薄的淡黄色胶膜，厚度约两微米。

然后是预烘。

苏白把涂好胶的硅片放在铁板上，下面用酒精灯加热。

温度控制在九十度，烘两分钟，让胶膜里的溶剂挥干净。

佟舒帮他计时，手里攥着那只从废品堆里淘出来的老式怀表。

“两分钟到了。”

苏白用镊子把硅片取下来，放在避光盒里冷却。

十片硅片，十次涂胶，十次预烘。

流水线作业，两人配合的十分默契。

第二步，曝光。

这一步必须在暗室环境下完成。

苏白把废品站的窗户用黑布蒙的严严实实，只留一盏红色安全灯。

他从避光盒里取出那张修改好的光刻掩膜，那张没有自毁后门的版本。

掩膜覆盖在涂好胶的硅片上方，对准位置。

苏白用的对准方法很简单：硅片边缘有一个他预先刻好的定位缺口，掩膜上有对应的十字标记。

两个标记重合，就意味着对准完成。

破绽之眼辅助微调，精度控制在一微米以内。

然后开灯。

那盏从轧钢厂暗房里搬回来的高压汞灯出强烈的紫外线。

曝光十五秒。

关灯。

紫外线透过掩膜上的透明图案区域，照射在光刻胶上。

被照到的部分生化学反应，变的溶于显影液。

没被照到的部分保持不变，继续保护下方的硅片。

这就是光刻的基本原理。

简单，但每一步的精度要求都很高。

第三步，显影。

苏白把曝光后的硅片浸入碳酸钠溶液中，轻轻晃动三十秒。

被紫外线照射过的胶膜溶解脱落，露出下方裸露的硅表面。

没被照射的部分留在原位，形成保护图案。

取出硅片，用蒸馏水冲洗，在红色安全灯下观察。

硅片表面出现了清晰的微缩电路图案。

线条锐利，边缘齐整，没有毛刺，没有断线。

苏白嘴角微翘了一下。

佟舒凑过来看，倒吸了一口凉气。

“这就是芯片的电路？”

苏白点头。